Publikuar
This document specifies the test method for measuring the crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using the XRD method with parallel X-ray beam. This document is applicable to all of the single-crystal thin film (wafer) as bulk or epitaxial layer structure.
PUBLISHED
ISO 22278:2020
90.20
Standard under periodical review
15 korr 2025
Vetëm seksionet informative të projekteve janë në dispozicion të publikut. Për të parë përmbajtjen e plotë, do t'ju duhet të krijoni një llogari. Nëse jeni anëtar, ju lutemi hyni në llogarinë tuaj duke klikuar në butonin "Identifikohu".