Publikuar
Ky dokument specifikon modelin e strukturës me parametrat përkatës, formatin e skedarit dhe procedurën e përshtatjes për karakterizimin e vlerave të dimensioneve kritike (CD) për vaferën dhe maskën fotografike duke imazhuar me një mikroskop elektronik të skanimit të dimensioneve kritike (CD-SEM) nga biblioteka e bazuar në model (MBL) metodë. Metoda është e zbatueshme për përcaktimin e gjerësisë së linjës për ekzemplarin, si p.sh., porta në vafer, fotomaskë, model i veçorive të linjës së vetme të izoluar ose të dendur deri në madhësinë 10 nm.
PUBLISHED
SSH ISO 21466:2019
60.60
Standard published
31 tet 2023
Only informative sections of projects are publicly available. To view the full content, you will need to members of the committee. If you are a member, please log in to your account by clicking on the "Log in" button.