Publikuar
Ky dokument specifikon modelin e strukturës me parametrat përkatës, formatin e skedarit dhe procedurën e përshtatjes për karakterizimin e vlerave të dimensioneve kritike (CD) për vaferën dhe maskën fotografike duke imazhuar me një mikroskop elektronik të skanimit të dimensioneve kritike (CD-SEM) nga biblioteka e bazuar në model (MBL) metodë. Metoda është e zbatueshme për përcaktimin e gjerësisë së linjës për ekzemplarin, si p.sh., porta në vafer, fotomaskë, model i veçorive të linjës së vetme të izoluar ose të dendur deri në madhësinë 10 nm.
PUBLISHED
SSH ISO 21466:2019
60.60
Standard published
31 tet 2023