ISO/FDIS 19383

Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors

General information

Current stage: 50.20 Effective date: 11 shk 2026

Originator: ISO

Owner: ISO/TC 107

Type: International Standard

Scope

This document describes the chemical characteristics and related process specifications of the atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity, and anion content specification.

Life cycle

NOW

IN_DEVELOPMENT
ISO/FDIS 19383
50.20 Proof sent to secretariat or FDIS ballot initiated: 8 weeks
11 shk 2026

Preview

Vetëm seksionet informative të projekteve janë në dispozicion të publikut. Për të parë përmbajtjen e plotë, do t'ju duhet të krijoni një llogari. Nëse jeni anëtar, ju lutemi hyni në llogarinë tuaj duke klikuar në butonin "Identifikohu".